CMDM

CVD Equipment Corporation
CVD Equipment Corporation
Central Islip，USA
CVD 设备公司位于美国纽约州，为纳斯达克上市公司。自1982年成立以来公司致力于提供化学气相沉积和渗透等各种设备和服务。我们的设备广泛应用于医疗植入物，表面涂层，光电，半导体，航空，和纳米科技等各个领域的研发和生产。我们的全自动设备通过精确控制温度，压力，反应物输送得以实现可控的蒸气和气体的分解和反应，从而沉积致密，高纯及保型的涂层。设备配有完整的硬件和软件安全锁。CVD公司提供从气体输送，到CVD工艺，以及尾气处理一整套完整方案。 VP200 化学气相渗透设备应用于基于钽的医疗植入物的大规模生产，MX85型号用于各种部件上钽涂层的研发。