• CVD Equipment Corporation
  • Central Islip,USA
  • CVD 设备公司位于美国纽约州,为纳斯达克上市公司。自1982年成立以来公司致力于提供化学气相沉积和渗透等各种设备和服务。我们的设备广泛应用于医疗植入物,表面涂层,光电,半导体,航空,和纳米科技等各个领域的研发和生产。 我们的全自动设备通过精确控制温度,压力,反应物输送得以实现可控的蒸气和气体的分解和反应,从而沉积致密,高纯及保型的涂层。设备配有完整的硬件和软件安全锁。CVD公司提供从气体输送,到CVD工艺,以及尾气处理一整套完整方案。 VP200 化学气相渗透设备应用于基于钽的医疗植入物的大规模生产,MX85型号用于各种部件上钽涂层的研发。